这次出成果之后就简单了，一下子就把我们国家跟国际上的技术差距从十年以上，拉近到了不到3年。主流的技术厂商，比如日本的半导体工厂，用的光刻机就未必比我们先进，所以，激发了国内业界的斗志和信心。以后，再要由我们来主导这种技术攻关，就不是那么难了！”
蒙欣一下子打开了话匣子，光刻机是林蒙多年研发的成果，突破技术封锁很难，而购买专利可不是那么简单的，这个想法不是没有过，不够几家国际公司的报价几乎是天价。
蒙欣好强的性子被激发，在巨大的资金注入下，终于是取得了不错的成绩。
“太好了，1微米光刻机研发成功，国内半导体工艺水平跟国际先进水平至少缩短到3年，有了这个铺垫，我相信我们很快就可以迎头赶上。”
林棋喜形于色，这可不仅仅是对新创业的功劳，而是一次性提高了国内光刻机水平，可以预见的是，政府在政策上肯定会有倾斜，至于人才，林蒙就有大量的储备，而且每一年都是在物色好的人选，蒙欣开出的工资非常不错，迄今为止，没有出现一个员工流失，让林棋也是不得不佩服。
这样的人才基本都是高精尖，走到哪里都能吃香，他们留下的原因，也绝对不仅仅是因为工资，还有蒙欣的管理手段，虽然开始的时候蒙欣给了他们一个下马威，但效果明显很不错。
“这算什么？我们还有沉浸式光刻技术，这个技术太牛逼了！影响未来几十年，后来欧洲的荷兰ASML彻底一家独大，主要就是因为路线正确，走了沉浸式光刻的路线。而日本的厂商，由于路线错了，在21世纪初，半导体制造工艺卡在65纳米时，从原本光刻机产能领先的国家，迅速的开始变成只能供应中低产光刻机，并且，还在不断失败和破产！”蒙欣很自信的说道，“所以，科技研发的路线很正常，关键的时期，技术抉择，选对了路线，就有可能赢家通吃，奠定几十年的优势！”
“你是说，未来国内的半导体产业的工艺能做到国际领先？”林棋不仅震惊。
“对！不用ASML的光刻机，我可以研发更好的。”蒙欣傲然说道，“以后，光刻机市场，林蒙科技说了算，不仅仅国内，全球范围内，等到我们的更关键的技术突破出现后，就是那样的格局了。”
……
89年10月9号，林蒙科技公司正是对外宣布，1微米光科技研发成功，瞬间引起了国内外科技行业和媒体强烈关注。
1微米光刻机，这绝对堪称的国之重器。
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