“老公，辛苦了，看你累的。”
“累个屁，不累！”林棋一语双关，“不服的话，再战第二回合。”
由于憋了几个月，让林棋感觉自己比以往要神勇的多。
“去你的！”蒙欣白了他一眼，说道，“我还有忙不完的事情呢，以为我跟你一样，越老越不正经。”
……
国产0.5微米光刻机虽然已经研发成功，但是为了避免打草惊蛇，所以，暂时并未准备大张旗鼓的在新闻上进行宣传。
而且，在技术上也是遮遮掩掩，避免更快是被竞争对手了解技术方向。
反正现阶段，0.5微米的光刻机，也不需要对外出售。
现阶段，林蒙科技公司盈利模式，一方面是专利费，另外一方面则是光刻机。在专利数量方面，林蒙科技看起来不如新创业电子，一年也就注册一千多个国际专利，国内专利每年注册数量也不超过3000个。各种外观专利和一些应用专利，林蒙科技公司都不屑于注册，注册的基本上都是一些技术含量非常高的核心科技。
比如，现在的0.5微米光刻机，就不是模仿现在的光刻机厂商的主流技术，而是应用了90年代还未普及的新技术，沉浸式光刻技术。
用沉浸式光刻技术来做0.5微米的光刻机，也就是500纳米，有点杀鸡用了牛刀的感觉，但是如果现在不用的话，以后这些专利可能会被别人注册。所以，即使杀鸡用了牛刀，也先提前占坑！
光刻机在60年代开始问世，一开始是接触式光刻机、接近式光刻机，到70年代逐渐升级到了投影式光刻机，使得半导体工艺水平，逐渐开始代表人类最精密的加工工艺水平。到1980年代，光刻机再度升级到了步进式光刻机和步进式扫描光刻机。
每一次技术突破，都会使得半导体制造行业出现技术方向的选择。而选对的方向，自然是赢家通吃，而选错了方向，未来会因为技术落后，在利润更高的高端光刻机市场，失去自己的市场份额
在80年代，欧美日等等国家拥有超过百家以上的企业，都是具备能力研发和生产光刻机的，甚至，就连东德曾经也是光刻机市场上的供应商。
而进入90年代之后，大量的光刻机厂商开始掉队落后。欧洲的asml在90年代初，市场占有率也不是那么高，甚至技术也不是太先进。真正让这家公司爆发，则是后来2002年，率先采用了193nm浸入式光刻机。一开始，193nm浸入式光刻机并未真
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