容。
毕竟，如此国之重器出自张江技术园区，沪市毫无疑问当得上“华夏半导体之都”。
“不同的芯片不同的良率，但基本能稳定在70%，慢慢调试改进，可以达到80%。”
陆飞比比画画道：“完全可以比肩AMSL，只用4个光罩、4次曝光，就可以达到7nm制程工艺。”
沙领导问道：“现在逻辑和华为的手机用的都是7nm制程工艺的芯片对吗？”
陆飞点了下头，“没错，7nm是目前市面上最先进的制程工艺，不过根据摩尔定律，再过个一两年，就可能突破到5nm。”
“5nm是不是就需要EUV光刻机了？”
郑韩好奇道。
“有EUV光刻机固然是好，只要一次曝光，一个光罩就能实现7nm、5nm，但没有EUV光刻机也无妨，有这台DUV浸润式光刻机也可以做到。”
陆飞露出个看似轻松的笑容。
“喔？”
顷刻间，一众领导的目光齐聚于他。
“梁博士想到的方案，如果把光刻机极限使用，经过6个光罩，9次曝光，也可以实现5nm工艺。”陆飞直截了当地回答。
一个戴着玳瑁眼镜的领导担忧道：“光刻机这么极限使用，会不会影响到使用寿命？”
“还有良率。”
“是啊，经过这么多道曝光，任何一道工序失败，都可能满盘皆输，成本就上来了……”
领导们来回分析，议论纷纷。
陆飞只能一一回答，“损害寿命肯定会损害，良率低也肯定会低一些，成本自然也就会高一点，但这是没有办法的办法，目前EUV光刻机国产化要实现彻底突破，还有不少技术难题摆在面前，需要时间去攻破。”
“比如呢？”
沙领导投去问询的目光。
“光刻机的技术难点主要集中在光源、反射镜、工作台，现在双工作台已经解决了，光源问题也突破了，就剩下物镜系统。”
陆飞直说道：“AMSL、尼康的光刻机用的是蔡司的技术，但蔡司愿意卖给AMSL、尼康，但绝对不会出口给我们。”
然后叹了口气，“没办法，我们只能从零开始，联合长春光机、徕卡、华为等联合研发，现在搞定了DUV浸润式的物镜系统，至于EUV的，恐怕需要很长一段时间。”
“那这期间，复芯、中芯的晶圆代工，有没有可能会被台积电、
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