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第157章 灵感突现

作品:回到1997造芯片作者:牧狼童
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“光源吗……”王向中闻言,也是陷入了思索当中。

的确是如林坚博士说的那般,照明系统,也就是光源,才是真正制约光刻水平发展的关键因素,其它的事情都能想办法取巧,无论是浸润式光刻,亦或是衍射光栅,它都是基于现有光源条件下的改良法。

而高压汞灯的365nm光波波长就决定了,它不可能制作出100nm以下制程的CPU,具有非常严重的时代局限性。

现在国际上最尖端的ArF光刻机所采用的DUV光源波长已经下降到了193纳米,从理论数值来计算,它最高可将分辨率提升到65nm,也就是目前全球最先进光刻工艺的极限。

现在用i线光刻机,还用高压汞灯这一套,不可能斗得过他们。

“您说得有道理,不过也未必,也许华夏今后几年就能跟上,把深紫外线照明系统给研究到位呢?”王向中半开玩笑道。

林坚闻言也是摇了摇头,道:“深紫外线照明没有这么简单。我看你们的资料,目前你们还在研究气压对成像系统的影响研究,不要怪我讲话难听,这种技术也就只能用于g线和i线光刻机上。”

“DUV深紫外线,也就是波长低于350纳米的电磁波,是用不到这项研究的,”他补充道:“尤其是VUV真空紫外(波长低于350纳米的电磁波)技术,只能在真空环境下使用,所以和气压毫无关系,这个你明白吧?”

“明白。”王向中闻言也是叹了一口气,要不是因为没有其它办法,谁会愿意一直把目光聚焦于i线光刻机的改良啊?

“我听陈正他讲过,你们在研究光刻机改良,所以才把我从阿美瑞肯叫了回来,让我帮你的忙,不过现在看来,华夏距离先进还差得很远哦。”林坚摇头道。

这话倒不是在嘲讽华夏的落后,这林坚博士所说的的确是事实,华夏想要真正自主制造出光刻机,还有很长的一段路要走。

不过在理论研究和实验研究上,此时的华夏可还一点儿都不输给西方国家!

“林博士您多虑了,其实华夏研究工作还是很到位的,最首先——华夏还是具有制造深紫外线激光器的能力的,至少在实验室中有这个能力。”王向中笑道。

“实验室里能造出来的意义不大啊,”林坚倒是对这个说法感到并不意外,在实验室不计成本地做一套零部件,以华夏的能力还是可以的,“只要不能量产,再厉害的技术也只是纸上谈兵而已。”

“没关系,路都

…。。
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