纳米的高端光刻胶那么困难。
说白了，当下和欧美的差距还很小。
因为王逸之前不知天高地厚的提议，官方提前布局，提前攻坚，完全可以在差距小的时候，提前追赶上欧美，甚至弯道超车。
前世，落后得太多。
那时候，欧美EUV都更新了好几代，并且投用了多年，咱们才奋起直追DUV光刻机，自然难。
可这一次，大家都还是DUV，那就简单了。
至于阿斯麦的EUV，目前还不成熟，正式投用还得好几年。
因为王逸的提议，提前追赶，前途可期。
“那再好不过，我相信国家机器的力量。”王逸笑说。
像是DUV光刻机，星逸科技要做，十年都难。
官方要做，有国家机器全力支持，五年就差不多搞定14纳米的DUV。
后续不断迭代升级，逐步提高精准度，达到10纳米，7纳米，不在话下。
毕竟阿斯麦2003年推出了第一代浸没式DUV 1250i，最初也是造45纳米芯片的。
后续不断对DUV光刻机的光源、光学系统、套刻精度、温控等方面，进行全方位升级。
这才逐渐实现了32-28纳米工艺，以及后续的20-16纳米工艺，再到10纳米节点、7纳米节点，以及十年后的5纳米节点。
前世DUV国产光刻机之所以迟迟不量产，主要原因就是要求高，起步高。
若是只能量产45纳米，那意义不大，推出了也没多少企业用。
十年后，缺的是高端光刻机，不是45纳米的光刻机。
但要想量产7纳米，甚至5纳米，那难度就大了，国产DUV都得不断升级。
因此，国产DUV迟迟不推出，就是在憋大招。
不过这一次就无所谓了。
起步早，能量产28纳米，就算是非常成功。
甚至量产45纳米，王逸都会疯狂买买买。
毕竟未来五年内，45纳米都是主流芯片。
而28纳米和20纳米，都只是少量的旗舰芯片，只占少数。
相反，更多的芯片都是物美价廉的45纳米。
国产光刻机若是能量产45纳米，都会很有市场。
但若是十年后才推出45纳米的国产光刻机，那就难了。
毕竟十年后的45纳米，是真的没法用。
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