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第198章 怼美之前先干美帝良心想一炮!

作品:花光两万亿,老板们求我别再创业作者:安之何处
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m介质刻蚀机验证,实现刻蚀设备的突破与国产替代;

助力北方剑华,收购美利坚NOvellUS剥离业务,即PVD技术,实现沉积设备的突破与国产替代;

助力姑苏瑞红,引进由小日子籍退休专家组成的JSR技术团队,实现光刻胶的突破与国产替代。

对于第三部分的内容,王诩暂时不予置评,继续看向文件的第四部分——风险控制与资源调配。

主要有三大风险:

一是美利坚技术封锁与制裁;

二是人才短缺;

三是资金压力过大。

针对第一个风险,战投部建议通过李家坡和香江中转采购设备,且更多利用非美利坚零部件如小日子光栅。

针对第二个风险,战投部建议集团3年内引进500名海外工程师,同时培养500名国内工程师。

针对第三个风险,战投部建议集团向政府建言,组成相关基金,募资攻克重大课题。

看到这里,王诩的目光立即锁定相关基金和1500亿¥的首期募资目标上。

群星科技能不能自个儿拿出1500亿?

有统子兜底,肯定能。

王诩也很心动。

但是事情不是这么做的。

领导们再怎么盛赞群星科技是民族企业,改变不了民营企业的本质。

群星科技可以推动行业发展和政策出台,却不能越俎代庖。

人,一定要看清形势,站稳脚跟。

想到这里,王诩心里有了决定,采纳战投部的这个建议,不过也要做一点小小的调整。

那就是向政府相关部门和领导建言的时候,至少要带着500亿¥去。

这样才显诚意和决心嘛。

敲定这一点,王诩往下看文件的第五部分,也就是最后一部分——分阶段目标规划。

该规划有三个时间节点,2015年、2018年、2025年。

第一,在2015年实现量产65nm、突破193nm液浸镜头的光刻目标,实现华芯国际28nmHKMG量产、国产设备占比15%的芯片制造目标;

第二,在2018年实现试产28nm、储备极紫外光学技术的光刻目标,实现建立完整28nm产线、国产设备占比35%的芯片制造目标;

第三,在2025年实现极紫外光原型机发布的光刻目标,实现,14nm FinFET风险

…。。
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